单、双面平面磨精磨剂

      本产品是我公司专业针对不锈钢、铝材、手机外壳、氧化铝片、陶瓷开发的一款新型助剂，在配合单面与双面平面研磨机过程中能达到除掉工件表面划痕，并且能让工件下3-10个丝，使工件达到平滑光亮镜面的效果。

外观    ：乳白色水溶液

比重    ：1.20 ± 0.02

固含量    ：40.0 ± 1.0 %

有效含量  ：> 40 %

pH值    ：8.5

平均原生粒径：30 -100nm

      广泛用于纳米级的化学机械抛光，如：硅片、化合物晶体、精密光学器件、硬盘盘片、手机配件、电脑配件、显示屏、宝石等纳米级及亚纳米级抛光加工。

等

    HL-810                                                                           25KG/桶