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本产品是我公司专业针对不锈钢、铝材、手机外壳、氧化铝片、陶瓷开发的一款新型助剂，在配合单面与双面平面研磨机过程中能达到除掉工件表面划痕，并且能让工件下3-10个丝，使工件达到平滑光亮镜面的效果。
外观 ：乳白色水溶液
比重 ：1.20 ± 0.02
固含量 ：40.0 ± 1.0 %
有效含量 ：> 40 %
pH值 ：8.5
平均原生粒径：30 -100nm
广泛用于纳米级的化学机械抛光，如：硅片、化合物晶体、精密光学器件、硬盘盘片、手机配件、电脑配件、显示屏、宝石等纳米级及亚纳米级抛光加工。
等
HL-810 25KG/桶
